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氮化鎵功率器件物理基礎(chǔ)
文章來源:元芯半導(dǎo)體 更新時間:2025/4/24 10:56:00
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物理結(jié)構(gòu)
與傳統(tǒng)的基于藍寶石晶片的氮化鎵器件相比,硅基氮化鎵器件顯著降低了器件制造成本,這為實現(xiàn)氮化鎵功率半導(dǎo)體器件的大規(guī)模應(yīng)用的鋪平了道路。圖 1顯示了 GaN 晶體管的典型物理結(jié)構(gòu),在 AlGaN 層和 GaN 層的邊界形成了具有高遷移率的二維電子氣 (2DEG)高導(dǎo)電通道。相比于依靠少數(shù)載流子(松散地被束縛在硅晶格中)傳導(dǎo)的硅晶體管,GaN 晶體管中的 2DEG 溝道表現(xiàn)出更高電子密度和電子遷移率,適用于大電流和大功率的應(yīng)用。根據(jù)柵極結(jié)構(gòu)和材料以及柵極摻雜帶來的開通閾值電壓的不同,現(xiàn)有技術(shù)的 GaN 晶體管主要有兩大類:耗盡型 GaN 晶體管和增強型 GaN 晶體管。

圖 1 GaN晶體管的物理結(jié)構(gòu)

 

耗盡型 GaN 晶體管的物理結(jié)構(gòu)如圖 2 所示。在正常開關(guān)工作狀態(tài)下,如圖 2(a) 所示,由于 GaN 晶體的固有特性和耗盡型柵極材料,柵極偏置電壓為零時,耗盡型GaN晶體管處于自然導(dǎo)通狀態(tài)。而關(guān)閉耗盡型 GaN 器件需要在柵極 (G) 和源極 (S) 之間施加負(fù)偏置電壓VGS。當(dāng) VGS 低于 GaN 晶體管的開啟閾值 VTH, D (VGS<VTH, D) 時,導(dǎo)電溝道被切斷,晶體管關(guān)閉,如圖 2.2(b) 所示。在此期間,漏源電壓(VDS)可以維持非常高的擊穿電壓。然而,對于耗盡型 GaN 晶體管,需要負(fù)柵極驅(qū)動電壓VGS來關(guān)閉晶體管,這使得 GaN 柵極驅(qū)動電路的設(shè)計變得更加復(fù)雜。

圖 2 耗盡型 GaN 晶體管 (a) 常開狀態(tài),(b) 關(guān)斷狀態(tài)

圖 3 增強型 GaN 晶體管,(a) 常關(guān)狀態(tài),(b) 導(dǎo)通狀態(tài)

 

為了緩解驅(qū)動的問題,科學(xué)家發(fā)明了增強型 GaN 晶體管,它不需要負(fù)柵極電壓來關(guān)閉晶體管而只需要零電壓,因此簡化了柵極驅(qū)動電路的設(shè)計。圖 3 顯示了增強型 GaN 晶體管的物理結(jié)構(gòu)。如圖 3(a) 所示,在柵極偏置電壓為零時,GaN晶體管導(dǎo)電溝道保持關(guān)斷狀態(tài),而不是耗盡型 GaN 晶體管的常開狀態(tài)。為了能開通 GaN 晶體管,需要施加正的柵極偏置電壓 VGS,將電子吸引到 AlGaN 和 GaN 的邊界以形成高遷移率導(dǎo)電溝道,從而實現(xiàn)了一個正的開啟閾值電壓(典型值約為1.7V)。當(dāng) VGS 高于開啟閾值電壓 (VGS>VTH, E) 時,增強型 GaN 晶體管開通,如圖 3(b) 所示。此外,為了防止 GaN 晶體管發(fā)生破壞性柵極擊穿,施加的最大柵極電壓需要進行鉗位,元芯半導(dǎo)體提供了獨有的專利鉗位和保護技術(shù),極大的提高了器件和系統(tǒng)的可靠性和穩(wěn)定性。

GaN器件的工作特性
為了闡明增強型 GaN 晶體管的工作原理,圖 4 展示了傳輸特性曲線。在 VGS 達到接近 1.7V 后,晶體管開始導(dǎo)通。由于 GaN 材料具有高電子高遷移率,GaN 晶體管表現(xiàn)出高跨導(dǎo)增益和大電流傳導(dǎo)能力。例如,在 3V 的 VGS 下,典型的 GaN 晶體管可以傳導(dǎo) 5A 的飽和電流 IDS。此外,GaN功率晶體管的飽和電流隨溫度增加呈現(xiàn)負(fù)溫度系數(shù),這可以保護功率器件在高溫大功率工作情況下免受永久性損壞。

圖 4 增強型GaN晶體管的傳輸特性

 

為了比較 GaN 晶體管與硅晶體管的柵極電容,選取了幾款典型器件并對它們的柵極電荷 QG 參數(shù)進行比較,如表 1中所示。與傳統(tǒng)的硅器件相比,GaN 器件具有寬禁帶電壓和高電子遷移率。在100V 耐壓和相同的導(dǎo)通電阻 RDS(ON) 情況下,GaN 晶體管的柵極電荷比硅器件小了 12 倍,這使得GaN器件成為高頻高效率開關(guān)電源系統(tǒng)中理想的開關(guān)功率器件。

表 1 硅和 GaN 器件之間柵極電荷 QG 的比較

 

圖 5 展示了不同柵極驅(qū)動電壓 VGS 下的導(dǎo)通電阻RDS(ON)。當(dāng) VGS 接近最大柵極電壓時,RDS(ON)最低,器件溝道具有高導(dǎo)電性。因此,為了降低GaN器件導(dǎo)通損耗,需要在不損壞柵極結(jié)構(gòu)的情況下最大化提高GaN 晶體管的柵極驅(qū)動電壓。在GaN晶體管并聯(lián)的大電流系統(tǒng)應(yīng)用中,由于GaN晶體管RDS(ON)具備正溫度系數(shù),這使得其具有與硅晶體管相似的特性,易于并聯(lián)以擴展功率范圍。

圖5. 不同的VGS柵極電壓下的導(dǎo)通電阻

 

圖 6. 增強型 GaN 晶體管的反向傳導(dǎo)特性

 

圖 6 所示,GaN在柵極為零電壓的情況下,溝道中的電子完全耗盡,這迫使 GaN 晶體管處于關(guān)閉狀態(tài)。然而,隨著漏極電壓進一步降低,柵極和漏極之間會產(chǎn)生正偏壓,吸引柵極下方的電子形成導(dǎo)電溝道。由于 GaN 晶體管的漏極和源極結(jié)構(gòu)不對稱,反向?qū)ǔ尸F(xiàn)高阻值。例如,如果要反向傳導(dǎo) 4A 的電流,漏極電壓變?yōu)?-3V(VSD=3V)。另外,由于沒有少數(shù)載流子參與導(dǎo)通, GaN 晶體管沒有反向恢復(fù)損耗,這顯著降低了開關(guān)損耗,使其非常適合高頻開關(guān)應(yīng)用。

 
 
 
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